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Contribution au dosage de l'oxygene dans le silicium au moyen de particules alpha

J. Giroux 1 M. Talvat J.-P. Thomas 1
1 IPNL - Institut de Physique Nucléaire de Lyon
Document type :
Journal articles
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http://hal.in2p3.fr/in2p3-00008263
Contributor : Sylvie Flores Connect in order to contact the contributor
Submitted on : Wednesday, February 7, 2001 - 4:19:59 PM
Last modification on : Friday, September 10, 2021 - 1:50:04 PM

Identifiers

  • HAL Id : in2p3-00008263, version 1

Collections

CNRS | IN2P3 | UNIV-LYON1 | IP2I | UDL

Citation

J. Giroux, M. Talvat, J.-P. Thomas. Contribution au dosage de l'oxygene dans le silicium au moyen de particules alpha. Bulletin de la Societe Chimique de France, 1971, 2, pp.706. ⟨in2p3-00008263⟩

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