Contribution au dosage de l'oxygene dans le silicium au moyen de particules alpha

J. Giroux; M. Talvat; J.-P. Thomas

Contribution au dosage de l'oxygene dans le silicium au moyen de particules alpha

J. Giroux ¹ M. Talvat J.-P. Thomas ¹

1 IPNL - Institut de Physique Nucléaire de Lyon

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Bulletin de la Societe Chimique de France, 1971, 2, pp.706

http://hal.in2p3.fr/in2p3-00008263
Contributor : Sylvie Florès <>
Submitted on : Wednesday, February 7, 2001 - 4:19:59 PM
Last modification on : Wednesday, February 7, 2001 - 4:19:59 PM

Contribution au dosage de l'oxygene dans le silicium au moyen de particules alpha

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