Composition, structure and annealing-induced phase separation in SiO$_x$ films produced by thermal evaporation of SiO$_x$ in vacuum - IN2P3 - Institut national de physique nucléaire et de physique des particules Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Vacuum Année : 2002

Composition, structure and annealing-induced phase separation in SiO$_x$ films produced by thermal evaporation of SiO$_x$ in vacuum

D. Nesheva
  • Fonction : Auteur
I. Bineva
  • Fonction : Auteur
Z. Levi
  • Fonction : Auteur
Z. Aneva
  • Fonction : Auteur
T. Merdzhanova
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

in2p3-00012611 , version 1 (03-03-2003)

Identifiants

  • HAL Id : in2p3-00012611 , version 1

Citer

D. Nesheva, I. Bineva, Z. Levi, Z. Aneva, T. Merdzhanova, et al.. Composition, structure and annealing-induced phase separation in SiO$_x$ films produced by thermal evaporation of SiO$_x$ in vacuum. Vacuum, 2002, 68, pp.1-9. ⟨in2p3-00012611⟩
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