Skip to Main content Skip to Navigation
Theses

Proprietes physicochimiques de films minces d'oxydes et d'oxynitrures de silicium et structure microscopique des interfaces SiO$_2$/Si(100) SiO$_x$N$_y$/Si(100)

Document type :
Theses
Complete list of metadata

http://hal.in2p3.fr/in2p3-00013291
Contributor : Sylvie Flores Connect in order to contact the contributor
Submitted on : Tuesday, August 24, 1999 - 10:22:48 AM
Last modification on : Friday, September 10, 2021 - 1:50:05 PM

Identifiers

  • HAL Id : in2p3-00013291, version 1

Collections

Citation

R. Saoudi. Proprietes physicochimiques de films minces d'oxydes et d'oxynitrures de silicium et structure microscopique des interfaces SiO$_2$/Si(100) SiO$_x$N$_y$/Si(100). Université Claude Bernard - Lyon I, 1990. English. ⟨in2p3-00013291⟩

Share

Metrics

Record views

29