Etude de l'implantation ionique a haute energie de bore et d'oxygene dans le silicium

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Thèse
Université Louis Pasteur - Strasbourg I, 1991. English


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Contributeur : Yvette Heyd <>
Soumis le : lundi 26 février 2001 - 07:37:51
Dernière modification le : lundi 26 février 2001 - 07:37:51

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P. Thevenin. Etude de l'implantation ionique a haute energie de bore et d'oxygene dans le silicium. Université Louis Pasteur - Strasbourg I, 1991. English. <in2p3-00019134>

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