Etude de l'implantation ionique a haute energie de bore et d'oxygene dans le silicium

docType_s : Theses


http://hal.in2p3.fr/in2p3-00019134
Contributor : Heyd Yvette <>
Submitted on : Monday, February 26, 2001 - 7:00:37 AM
Last modification on : Monday, February 26, 2001 - 7:00:37 AM

Identifiers

  • HAL Id : in2p3-00019134, version 1

Citation

P. Thevenin. Etude de l'implantation ionique a haute energie de bore et d'oxygene dans le silicium. Université Louis Pasteur - Strasbourg I, 1991. English. <in2p3-00019134>

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