Optical and structural properties of silicon oxynitride deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

J. Dupuis 1 E. Fourmond 1 D. Ballutaud 2 N. Bererd 3 M. Lemiti 1
1 INL - PV - INL - Photovoltaïque
INL - Institut des Nanotechnologies de Lyon
2 GEMAC - Groupe d'Etude de la Matière Condensée
3 ACE
IPNL - Institut de Physique Nucléaire de Lyon
Abstract : 1 Corresponding author.
Keywords : UCBL 43 boulevard du 11 novembre 1918 69622 Villeurbanne cedex France
Type de document :
Article dans une revue
Thin Solid Films, Elsevier, 2010, 519, pp.1325-1333. 〈10.1016/j.tsf.2010.09.036〉
Domaine :
Liste complète des métadonnées
http://hal.in2p3.fr/in2p3-00734027
Contributeur : Sylvie Flores <>
Soumis le : jeudi 10 janvier 2019 - 09:42:42
Dernière modification le : mercredi 6 mars 2019 - 11:28:05

Fichier

J.Dupuis - Optical and structu...
Fichiers produits par l'(les) auteur(s)

Identifiants

Collections

IN2P3 | GEMAC | UVSQ | INL | EC-LYON | INSA-LYON | UNIV-LYON1 | IPNL | INSA-GROUPE

Citation

J. Dupuis, E. Fourmond, D. Ballutaud, N. Bererd, M. Lemiti. Optical and structural properties of silicon oxynitride deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition. Thin Solid Films, Elsevier, 2010, 519, pp.1325-1333. 〈10.1016/j.tsf.2010.09.036〉. 〈in2p3-00734027〉

Exporter

BibTeX TEI DC DCterms EndNote

Partager

Métriques

Consultations de la notice

190

Téléchargements de fichiers

17

Contact

support.ccsd.cnrs.fr
hal.support@ccsd.cnrs.fr
Logo CCSD