Optical and structural properties of silicon oxynitride deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

J. Dupuis 1 E. Fourmond 1 D. Ballutaud 2 N. Bererd 3 M. Lemiti 1
1 INL - PV - INL - Photovoltaïque
INL - Institut des Nanotechnologies de Lyon
3 ACE
IPNL - Institut de Physique Nucléaire de Lyon
Abstract : 1 Corresponding author.
Type de document :
Article dans une revue
Thin Solid Films, Elsevier, 2010, 519, pp.1325-1333. 〈10.1016/j.tsf.2010.09.036〉
Domaine :
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http://hal.in2p3.fr/in2p3-00734027
Contributeur : Sylvie Flores <>
Soumis le : jeudi 10 janvier 2019 - 09:42:42
Dernière modification le : mercredi 6 mars 2019 - 11:28:05

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J.Dupuis - Optical and structu...
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J. Dupuis, E. Fourmond, D. Ballutaud, N. Bererd, M. Lemiti. Optical and structural properties of silicon oxynitride deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition. Thin Solid Films, Elsevier, 2010, 519, pp.1325-1333. 〈10.1016/j.tsf.2010.09.036〉. 〈in2p3-00734027〉

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