Control of particle flux and energy on substrate in an inverted cylindrical magnetron for plasma PVD

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Plasma Sources Science and Technology, IOP Publishing, 2014, 23 (6), pp.065039. 〈10.1088/0963-0252/23/6/065039〉
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Contributeur : Emmanuelle Vernay <>
Soumis le : mardi 18 novembre 2014 - 09:35:06
Dernière modification le : mardi 22 mai 2018 - 21:48:09

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A. Todoran, M. Mantel, A. Bès, C. Vachey, A. Lacoste. Control of particle flux and energy on substrate in an inverted cylindrical magnetron for plasma PVD. Plasma Sources Science and Technology, IOP Publishing, 2014, 23 (6), pp.065039. 〈10.1088/0963-0252/23/6/065039〉. 〈in2p3-01083803〉

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