Continuous Deposition of Organo-Chlorinated Thin Films by Atmospheric Pressure Dielectric Barrier Discharge in a Wire-Cylinder Configuration

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Plasma Processes and Polymers, Wiley-VCH Verlag, 2014, 11 (11), pp.1089-1101. 〈10.1002/ppap.201400098〉
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Contributeur : Emmanuelle Vernay <>
Soumis le : vendredi 12 décembre 2014 - 09:24:24
Dernière modification le : mardi 22 mai 2018 - 21:48:09

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C. Vandenabeele, R. Maurau, S. Bulou, F. Siffer, M. Gérard, et al.. Continuous Deposition of Organo-Chlorinated Thin Films by Atmospheric Pressure Dielectric Barrier Discharge in a Wire-Cylinder Configuration. Plasma Processes and Polymers, Wiley-VCH Verlag, 2014, 11 (11), pp.1089-1101. 〈10.1002/ppap.201400098〉. 〈in2p3-01094299〉

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