Origin of the heat load on a substrate coated in inverted cylindrical magnetron (ICM)

Type de document :
Communication dans un congrès
4th Magneton, Ion Processing & Arc Technologies European Conference, 14th Internation Symposium on Reactive Sputter Deposition (MIATEC 2015), Dec 2015, Paris, France
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Contributeur : Emmanuelle Vernay <>
Soumis le : jeudi 17 décembre 2015 - 10:35:31
Dernière modification le : mardi 22 mai 2018 - 21:48:10

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  • HAL Id : in2p3-01245399, version 1

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Citation

T. Le Coz, M. Mantel, C. Vachey, A. Todoran, A. Bès, et al.. Origin of the heat load on a substrate coated in inverted cylindrical magnetron (ICM). 4th Magneton, Ion Processing & Arc Technologies European Conference, 14th Internation Symposium on Reactive Sputter Deposition (MIATEC 2015), Dec 2015, Paris, France. 〈in2p3-01245399〉

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