Communication Dans Un Congrès
Année : 2017
Emmanuelle Vernay : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.in2p3.fr/in2p3-01573956
Soumis le : vendredi 11 août 2017-11:04:56
Dernière modification le : mardi 16 janvier 2024-15:40:35
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : in2p3-01573956 , version 1
Citer
T. Le Coz, C. Vachey, S. Grosso, A. Bès, A. Lacoste, et al.. Influence of the magnetic field on the DC sputtering efficiency of an Inverted Cylindrical Magnetron (ICM) . 21th International Colloquium on Plasma Processes, 5th Magnetron Ion Processing & Arc Technologies European Conferene (CIP-MIATEC 2017), Jun 2017, Nice, France. ⟨in2p3-01573956⟩
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