Influence of the magnetic field on the DC sputtering efficiency of an Inverted Cylindrical Magnetron (ICM)

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Communication dans un congrès
21th International Colloquium on Plasma Processes, 5th Magnetron Ion Processing & Arc Technologies European Conferene (CIP-MIATEC 2017), Jun 2017, Nice, France. 〈www.cip-miatec.com〉
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Contributeur : Emmanuelle Vernay <>
Soumis le : vendredi 11 août 2017 - 11:04:56
Dernière modification le : jeudi 11 janvier 2018 - 06:21:33

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T. Le Coz, C. Vachey, S. Grosso, A. Bès, A. Lacoste, et al.. Influence of the magnetic field on the DC sputtering efficiency of an Inverted Cylindrical Magnetron (ICM) . 21th International Colloquium on Plasma Processes, 5th Magnetron Ion Processing & Arc Technologies European Conferene (CIP-MIATEC 2017), Jun 2017, Nice, France. 〈www.cip-miatec.com〉. 〈in2p3-01573956〉

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