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Influence of hydrogen on the structure and surface morphology of pulsed arf excimer laser crystallized amorphous silicon thin film Mathe E.L., Naudon A., Elliq M., Fogarassy E., De Unamuno S. Applied Surface Science 54 (1992) 392-400 [in2p3-00016008 - version 1]

One-step Growth of Polycrystalline Silicon thin Films at Low-temperature by ARF Excimer Laser-induced Photo-CVD Elliq M., Fogarassy E., Fuchs C., Stoquert J.P., De Unamuno S. et al Applied Surface Science 54 (1992) 35-40 [in2p3-00015969 - version 1]

Pulsed excimer and Nd: YAG laser crystallization of a-Si: H Elliq M., Fogarassy E., Stoquert J.P., Fuchs C., De Unamuno S. Applied Surface Science 46 (1990) 378- [in2p3-00016044 - version 1]