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PULSED ELECTRON BEAM ANNEALING OF As AND B IMPLANTED SILICON Barbier D., Chemisky G., Grob J., Laugier A., Siffert P. et al Dans Journal de Physique Colloques - Congress on Laser-Solid Interactions and Transient Thermal Processing of Materials, France (1983) [jpa-00223118 - version 1]

INTERACTION BETWEEN ARGON AND DOPANTS IN SPUTTERED a-Si : H Toulemonde M., Grob J., Bruyère J., Deneuville A., Hamdi H. et al Dans Journal de Physique Colloques - Ninth International Conference on Amorphous and Liquid Semiconductors, France (1981) [jpa-00220800 - version 1]

SOLUBILITY LIMIT OF DOPANTS IN SILICON IRRADIATED BY RUBY LASER Fogarassy E., Stuck R., Grob J., Grob A., Siffert P. Journal de Physique Colloques 41, C4 (1980) C4-41-C4-45 [jpa-00219922 - version 1]