680 articles – 6866 Notices  [english version]
HAL : in2p3-00019447, version 1

Fiche détaillée  Récupérer au format
Applied Surface Science 46 (1990) 371-374
Annealing kinetics during rapid thermal processing of excimer laser-induced defects in virgin silicon
B. Hartiti1, A. Slaoui1, J.C. Muller1, P. Siffert1
(1990)
1 :  IReS - Institut de Recherches Subatomiques