Accueil
Consulter
Par thème arXiv
Par discipline IN2P3
Par type de document
Les 30 derniers dépôts
Par année de publication
Par laboratoire
—————
HAL
TEL
SPIRES - SLAC
ArXiv
CDS - CERN
HEPDOC
Rechercher
Recherche simple
Recherche avancée
Accès par identifiant
Services
Recevoir des alertes (abonnements)
Extraire une liste de publication
Créer une page Web
Aide
À propos
version française
english version
.:.
Consulter
>
Par thème arXiv
> Plasmas .:.
22 Documents classés par :
Date
Titre
Nom du premier auteur
Type de documents
Date de dépôt
1
-
2
-
3
Thermoelectric properties of thin films of Sb doped Mg2Si1−xSnx solid solutions
Le-Quoc H., Béchu S., Populoh S., Weidenkaff A., Lacoste A.
Journal of Alloys and Compounds
546
(2013) 138-144 [in2p3-00780457 - version 1]
Thermoelectric properties of thin films of Sb doped Mg2Si1 xSnx solid solutions
Le-Quoc H., Béchu S., Populoh S., Weidenkaff A., Lacoste A.
Journal of Alloys and Compounds
546
(2013) 138-144 [in2p3-00749377 - version 1]
Physics of collisional plasmas. Introduction to high-frequency discharges
Moisan M., Pelletier J.
(2012) [in2p3-00766269 - version 1]
Deposition of thin films of Mg2Si1−xSnx solid solution by plasma-assisted co-sputtering
Le-Quoc H., Lacoste A., Béchu S., Bès A., Bourgault D. et al
Journal of Alloys and Compounds
538
(2012) 73-78 [in2p3-00731516 - version 1]
Thin films of thermoelectric compound Mg2Sn deposited by co-sputtering assisted by multi-dipolar microwave plasma
Le-Quoc H., Lacoste A., Hlil E.-K., Bès A., Tan Vinh T. et al
Journal of Alloys and Compounds
509
(2011) 9906-9911 [in2p3-00640016 - version 1]
Conception, étude et optimisation de nouvelles sources plasma à la résonance cyclotronique électronique. Application aux dépôts par voie chimique et par pulvérisation.
Diers M.
Université de Grenoble (21/12/2010), Ana Lacoste (Dir.) [tel-00782845 - version 2]
Deposition of Thin Films of Mg_2 Si_1-x Sn_x Solid Solution by Plasma Assisted Co-sputtering
Le-Quoc H., Lacoste A., Hlil E.K., Bès A., Pelletier J. et al
8th European Conference on Thermoelectrics (ECT 2010)
, Italie (2010) [in2p3-00530474 - version 1]
Advances and drawbacks of microwave plasmas for surface processing
Lacoste A., Pelletier J., Moisan M., Héau C., Schmidt B.
17th International Colloquium on PLASMA PROCESSES (CIP09)
, France (2009) [in2p3-00399341 - version 1]
Cooperation with Korea on distributed microwave plasma reactors for surface processing applications in industry
Pelletier J.
FKPPL Workshop
, France (2009) [in2p3-00365328 - version 1]
Nonmagnetic thin layers of Ni3N
Vempaire D., Fettar F., Ortega L., Pierre F., Miraglia S. et al
Journal of Applied Physics
106
(2009) 073911 [in2p3-00428926 - version 1]