| domaine : |
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Sciences de l'ingénieur/Génie des procédés
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| titre : |
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Emploi de la réaction résonnante 1H(15N, ay) pour l'obtention de profils de concentration d'hydrogène dans les matériaux |
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| auteur(s) : |
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J.-P. Thomas1, Christophe Pijolat ( )2, M. Fallavier1 |
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| laboratoire : |
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| résumé : |
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Experimental results of hydrogen depth profiling in materials, using the resonant nuclear reaction 1H(15N, ay) (Er-6385 keV) are presented here. Such an analysis can be performed with a 2 500 kV accelerator. Among the problems inherent to such an ion beam analysis, we discuss the influence of the vacuum quality, of the surface state of the targets and of the in-depth hydrogen stability. Nevertheless it turns out that the analytical performances of the method (depth resolution of 50 Å, analysing depth about one micron and sensitivity down to 50 ppm in silicon) make it potentially the most attractive of the nuclear methods. Various examples are given about the prblems encountered and the performances reported. |
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langue du texte
intégral : |
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Français |
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Date de production,
écriture : |
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1977 |
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| journal : |
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Revue de Physique Appliquee |
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| Audience : |
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nationale |
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| type de publication : |
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Articles dans des revues avec comité de lecture |
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| date de publication : |
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1978 |
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| volume : |
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433-439 |
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| page, identifiant, ... : |
|
433-439 |
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| projet(s), collaboration(s) : |
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Institut de Physique Nucléaire (et IN2P3), Université Lyon-1 43, Bd du 11 Novembre 1918, 69622 Villeurbanne Cedex (France) |
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