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Wideband frequency and in-situ characterization of ultra thin ZrO2 and HfO2 films for integrated MIM capacitors, France (2009)
Wideband frequency and in-situ characterization of ultra thin ZrO2 and HfO2 films for integrated MIM capacitors
T. Bertaud1, C. Bermond, T. Lacrevaz, C. Vallée2, Y. Morand3, B. Fléchet, A. Farcy4, M. Gros-Jean5, S. Blonkowski3
(08/03/2009)
1 :  LTM - Laboratoire des technologies de la microélectronique
2 :  CPPM - Centre de Physique des Particules de Marseille
3 :  ST-CROLLES - STMicroelectronics [Crolles]
4 :  LEA - Laboratoire d'Etudes Aérodynamiques
5 :  SIMaP - Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés
Sciences de l'ingénieur/Optique / photonique