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International Symposium on Chemical Vapor Deposition : CDV-XIV and EUROCVD11, Paris : France (1997)
Ion beam analysis of ternary silicides me-Si-N (Me = Re Ta Ti W) thin films used as diffusion barriers in advanced metallization
R. Somatri-Bouamrane1, N. Chevarier1, A. Chevarier1, A.M. Dutron, E. Blanquet, R. Madar
(1997)
1 :  IPNL - Institut de Physique Nucléaire de Lyon
Physique/Physique Nucléaire Expérimentale