Reactions parasites rencontrees lors du dosage de l'oxygene dans les silicium au moyen des particules alpha

J. Giroux; M. Talvat; J.-P. Thomas; J. Tousset

HAL : in2p3-00008264, version 1

Reactions parasites rencontrees lors du dosage de l'oxygene dans les silicium au moyen des particules alpha
Giroux J., Talvat M., Thomas J.-P., Tousset J.
Journal of Radioanalytical and Nuclear Chemistry 6 (1970) 423- - http://hal.in2p3.fr/in2p3-00008264

Titre :

Reactions parasites rencontrees lors du dosage de l'oxygene dans les silicium au moyen des particules alpha

Auteur :

J. Giroux¹, M. Talvat, J.-P. Thomas¹, J. Tousset¹

Laboratoire :

1 :	IPNL - Institut de Physique Nucléaire de Lyon

http://www.ipnl.in2p3.fr/

CNRS : UMR5822 – IN2P3 – Université Claude Bernard - Lyon I

France

Type de publication :

Articles dans des revues avec comité de lecture

Date de publication
ou d'écriture :

1970

Nom du périodique :

Journal of Radioanalytical and Nuclear Chemistry (J. Radioanal. Nucl. Chem.)
Publisher	Akadémiai Kiadó
ISSN	0236-5731 (eISSN : 1588-2780)

Volume :

Page/Article :

423-


in2p3-00008264, version 1
http://hal.in2p3.fr/in2p3-00008264
oai:hal.in2p3.fr:in2p3-00008264
Contributeur : Sylvie Florès <>
Soumis le : Mercredi 7 Février 2001, 16:26:28
Dernière modification le : Mercredi 7 Février 2001, 16:26:28