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| HAL : in2p3-00013176, version 1 |
| Fiche détaillée |  Récupérer au format |
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| Colloquium on Metallurgy 26, Saclay : France |
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| Amorphization of tantalum by boron and phosphorus ion implantation |
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| L. Thome1A. BenyagoubH. Bernas1J.C. Pivin1R.W. Cahn |
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| (1984) |
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| 1 : | CSNSM - Centre de Spectrométrie Nucléaire et de Spectrométrie de Masse |
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| in2p3-00013176, version 1 | |
| http://hal.in2p3.fr/in2p3-00013176 | |
| oai:hal.in2p3.fr:in2p3-00013176 | |
| Contributeur : Jocelyne Lorgeril | |
| Soumis le : Mardi 13 Avril 1999, 09:45:16 | |
| Dernière modification le : Mardi 13 Avril 1999, 09:45:16 | |
