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| HAL : in2p3-00019430, version 1 |
| Fiche détaillée |  Récupérer au format |
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| International Conference On Ion Implantation Equipment And Techniques 5, Jeffersonville : États-Unis |
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| Multiple-beam ion implantation setup for large scale treatment of semiconductors |
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| J.C. Muller1E. Courcelle1D. Salles1P. Siffert1 |
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| (1985) |
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| 1 : | IReS - Institut de Recherches Subatomiques |
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| Thème(s) | : | Physique/Physique/Instrumentations et Détecteurs |
| in2p3-00019430, version 1 | |
| http://hal.in2p3.fr/in2p3-00019430 | |
| oai:hal.in2p3.fr:in2p3-00019430 | |
| Contributeur : Yvette Heyd | |
| Soumis le : Mardi 29 Mai 2001, 16:38:21 | |
| Dernière modification le : Mardi 29 Mai 2001, 16:38:21 | |
