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| HAL : in2p3-00019452, version 1 |
| Fiche détaillée |  Récupérer au format |
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| Journal of Materials Research 4 (1989) 1227-1232 |
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| A study of 2 MeV oxygen implantation to form deeply buried SiO$_2$ layers |
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| J.J. Grob1A. Grob1P. Thevenin1P. Siffert1C. D'AnterrochesA. Golanski |
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| (1989) |
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| 1 : | IReS - Institut de Recherches Subatomiques |
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| in2p3-00019452, version 1 | |
| http://hal.in2p3.fr/in2p3-00019452 | |
| oai:hal.in2p3.fr:in2p3-00019452 | |
| Contributeur : Yvette Heyd | |
| Soumis le : Mercredi 30 Mai 2001, 13:42:13 | |
| Dernière modification le : Mercredi 30 Mai 2001, 13:42:13 | |
