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Solar Cells 14 (1985) 157-166
The use of H$_2$ and NH$_3$ ion implantation in the passivation of defects in silicon ribbon grown by the ribbon-against-drop technique
E. Courcelle1, J.C. Muller1, P. Siffert1, C. Belouet1
(1985)
1 :  IReS - Institut de Recherches Subatomiques
Physique/Physique/Instrumentations et Détecteurs