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| HAL : in2p3-00019490, version 1 |
| Fiche détaillée |  Récupérer au format |
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| Applied Physics 19 (1979) 313-319 |
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| Calculated temperature distribution during laser annealing in silicon and cadmium telluride |
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| R.O. BellM. Toulemonde1P. Siffert1 |
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| (1979) |
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| 1 : | IReS - Institut de Recherches Subatomiques |
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| in2p3-00019490, version 1 | |
| http://hal.in2p3.fr/in2p3-00019490 | |
| oai:hal.in2p3.fr:in2p3-00019490 | |
| Contributeur : Yvette Heyd | |
| Soumis le : Jeudi 31 Mai 2001, 14:16:18 | |
| Dernière modification le : Jeudi 31 Mai 2001, 14:16:18 | |
