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Revue de Physique Appliquee 6, 3 (1971) 279-283
Analyse stœchiométrique de couches évaporées d'oxyde de silicium par observation simultanée des réactions nucléaires (d, p) sur l'oxygène et le silicium
A. Cachard1, J. Pivot1, A. Roger1, M. Talvat1, J.-P. Thomas1
(1971)

La microanalyse par observation directe de réactions nucléaires a été appliquée au dosage de l'oxygène 16 et du silicium 28. Les spectres caractéristiques des réactions (d, p) sur ces isotopes ont été observés aux faibles énergies. Les réactions 016(d, p0) O17 et Si28 (d, p10) Si29 sont suffisamment séparées pour permettre le dosage simultané de ces deux éléments. L'énergie des deutons incidents la plus favorable est de 1,5 MeV et la précision sur le rapport No/Nsi est meilleure que 1 %. Nous avons utilisé cette méthode pour l'étude de la stoechiométrie d'oxydes de silicium évaporés, et nous avons pu suivre l'influence de la pression résiduelle et de la vitesse d'évaporation sur la composition du dépôt. Cette technique peut également être employée pour l'analyse de la stoechiométrie d'autres composés en couches minces tels que l'alumine ou le nitrure de silicium.
1 :  IPNL - Institut de Physique Nucléaire de Lyon
Physique/Articles anciens
chemical analysis by nuclear reactions and scattering – films – silicon compounds – stoichiometric analysis – d – p nuclear reactions – evaporated SiO sub 2 films – sup 16 O d – p sup 17 O – sup 28 Si d – p sup 29 Si
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