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Revue de Physique Appliquee 15, 3 (1980) 611-629
Emploi de lasers dans la technologie des photopiles
J.C. Muller1, P. Siffert1
(1980)

Dans cet article on passe en revue les différentes applications des lasers de puissance continus ou impulsionnels dans la technologie des cellules solaires à base de silicium. On considère tout d'abord les différents modèles développés pour calculer les effets de ces flux lumineux intenses sur le silicium ; puis, on analyse les possibilités d'emploi de ces dispositifs pour préparer des films autosupportants ou des couches sur substrat. Finalement, trois méthodes de réalisation de la jonction sont décrites : activation de dopants diffusés, implantation ionique conventionnelle ou simplifiée et dépôt de films en surface.
1 :  IReS - Institut de Recherches Subatomiques
Physique/Articles anciens
laser beam applications – semiconductor doping – semiconductor thin films – silicon – solar cells – photopile technology – pulsed lasers – high intensity light – self supporting films – deposited layers – rectifying junction – diffused dopants – ion implantation – alloying films – high power density continuous laser – Si solar cells – light absorption – film deposition – dopant activation – elemental semiconductors
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