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Effets de température dans les procédés de gravure plasma : Aspects fondamentaux et applications
Koo M.
Thèses. Université Joseph-Fourier - Grenoble I (22/12/2008), Jacques Pelletier (Dir.)
[oai:tel.archives-ouvertes.fr:tel-00355029] - http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00355029
Effets de température dans les procédés de gravure plasma : Aspects fondamentaux et applications
Min Koo ()1
1 :  LPSC - Laboratoire de Physique Subatomique et de Cosmologie
http://lpsc.in2p3.fr
CNRS : UMR5821 – IN2P3 – Université Joseph Fourier - Grenoble I – Institut Polytechnique de Grenoble - Grenoble Institute of Technology
53 avenue des Martyrs - 38026 Grenoble Cedex
France
Temperature effects in plasma etching : Fundamentals and applications
Thèses
22/12/2008
L'objectif du travail de thèse est d'étudier les effets de température et du dopage sur les caractéristiques de gravure du Si et des polymères : produits de réaction, cinétiques, énergie d'activation, anisotropie, et sélectivité. La gravure anisotrope des polymères est ensuite étudiée en fonction de la température en utilisant des mélanges de gaz permettant d'utiliser un procédé par passivation latérale. Les résultats expérimentaux obtenus sont discutés en tenant compte de l'étude thermodynamique des systèmes chimiques concernés. Le travail s'achève par l'étude de faisabilité de filtres pour microfiltration par perçage de pores à travers des films polymère.
The objective of the thesis is to study the temperature and doping effects on the etching characteristics of Si and polymers: reaction products, etch rates, activation energy, anisotropy and selectivity. The anisotropic etching of polymers is studied as a function of temperature by using gas mixtures able to provide lateral wall passivation. The experimental results reported are analyzed in view of the thermodynamical study of the chemical systems considered. The final part is devoted to a feasibility study of microfilters via the etching of cylindrical pores through polymer films.
Physique

Université Joseph-Fourier - Grenoble I
Physique
physique des matériaux et nanostructures
Français

Jacques Pelletier
53 rue des Martyrs 38026 Grenoble Cedex FRANCE
Pierre RANSON (Président)
Yvan SÉGUI (Rapporteur)
Christophe CARDINAUD (Rapporteur)
Marceline BONVALOT (Examinateur)
Jacques PELLETIER (Directeur de thèse)
Ana LACOSTE (Co-directeur de thèse)

gravure – plasmas micro-onde – gravure du silicium – gravure des polymères – température de surface – dopage du silicium – passivation latérale – mélanges SO2 / O2 – mélanges CO / O2 – SF6 – filtres pour micro- et nanofiltration
etching; microwave plasmas; etching of Si; etching of polymers; surface temperature; Si doping; lateral wall passivation; SO2 / O2 gas mixtures; CO /O2 gas mixtures; SF6; filters for micro-nanofiltration
22/12/2008
Université Joseph-Fourier - Grenoble I
Physique
physique des matériaux et nanostructures
Jacques Pelletier
Pierre RANSON (Président)
Yvan SÉGUI (Rapporteur)
Christophe CARDINAUD (Rapporteur)
Marceline BONVALOT (Examinateur)
Jacques PELLETIER (Directeur de thèse)
Ana LACOSTE (Co-directeur de thèse)
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