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Contribution au dosage de l'oxygene dans le silicium au moyen de particules alpha
Giroux J., Talvat M., Thomas J.-P.
Bulletin de la Societe Chimique de France 2 (1971) 706- - http://hal.in2p3.fr/in2p3-00008263
Contribution au dosage de l'oxygene dans le silicium au moyen de particules alpha
J. Giroux1, M. Talvat, J.-P. Thomas1
1 :  IPNL - Institut de Physique Nucléaire de Lyon
http://www.ipnl.in2p3.fr/
CNRS : UMR5822 – IN2P3 – Université Claude Bernard - Lyon I (UCBL)
France

Articles dans des revues avec comité de lecture
1971
Bulletin de la Societe Chimique de France
2
706-