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Thin Solids Films 519 (2010) 1325-1333
Optical and structural properties of silicon oxynitride deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition
J. Dupuis1, E. Fourmond1, D. Ballutaud2, N. Bererd3, 4, M. Lemiti1
(2010)
1 :  INL - Institut des Nanotechnologies de Lyon - Site de l'INSA
2 :  GEMAC - Groupe d'Etude de la Matière Condensée
3 :  IUT A
4 :  IPNL - Institut de Physique Nucléaire de Lyon
ACE
Chimie/Radiochimie