45 articles – 154 Notices  [english version]
HAL : tel-00371657, version 2

Fiche détaillée  Récupérer au format
Université Claude Bernard - Lyon I (01/07/2008), Jean-Marie MACKOWSKI (Dir.)
Versions disponibles :
Etude et réalisation d'empilements multicouches sur des optiques asphériques de grandes dimensions pour des applications en lithographie Extrême U.V
Benoit Sassolas1
(01/07/2008)

La réalisation d'optiques de grandes dimensions est un élément clé à la réussite de la lithographie Extrême-Ultraviolet à 13,5 nm. Leur intégration dans les appareils de production doit permettre d'acheminer un flux lumineux intense de la source jusqu'au wafer et ainsi d'augmenter la productivité. Nous avons étudié et développé des systèmes multicouches à base de molybdène et silicium. Leurs structures ont été étudiées par réflectométrie des rayons X et leurs performances mesurées à 13,5 nm sous rayonnement synchrotron. Les résultats ont révélé une réflectivité à 13,5 nm limitée principalement à cause de la faible qualité des interfaces due à l'inter-diffusion des 2 matériaux. Nous avons aussi porté une attention particulière au traitement de substrats asphériques de grandes dimensions. Nous avons notamment utilisé des techniques de masquage permettant de contrôler les épaisseurs déposées sur des diamètres de près de 500 mm et malgré des flèches proches de 100 mm.
1 :  LMA - Laboratoire des matériaux avancés
Physique/Matière Condensée
Multicouches – Lithographie – Extrême U.V – Pulvérisation par faisceau d'ions
Liste des fichiers attachés à ce document : 
PDF
These_Benoit_SASSOLAS_27_oct.pdf(5.4 MB)