| HAL : in2p3-00731516, version 1 |
| DOI : 10.1016/j.jallcom.2012.06.003 |
| Fiche détaillée | Récupérer au format |
|
|
| Journal of Alloys and Compounds 538 (2012) 73-78 |
|
|
|
|
| Deposition of thin films of Mg2Si1−xSnx solid solution by plasma-assisted co-sputtering |
|
|
| H. Le-Quoc1, 2A. Lacoste1S. Béchu1A. Bès1D. Bourgault2D. Fruchart2 |
|
|
| (2012) |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
| 1 : | LPSC - Laboratoire de Physique Subatomique et de Cosmologie |
| 2 : | NEEL - Institut Néel |
|
|
|
|
|
|
|
|
| Supra IICE |
|
|
|
|
| Thème(s) | : | Sciences de l'ingénieur/Plasmas Physique/Matière Condensée/Science des matériaux |
| in2p3-00731516, version 1 | |
| http://hal.in2p3.fr/in2p3-00731516 | |
| oai:hal.in2p3.fr:in2p3-00731516 | |
| Contributeur : Emmanuelle Vernay | |
| Soumis le : Jeudi 13 Septembre 2012, 08:57:23 | |
| Dernière modification le : Mardi 12 Février 2013, 09:05:57 | |