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Université Joseph-Fourier - Grenoble I (22/12/2008), Jacques Pelletier (Dir.)
Effets de température dans les procédés de gravure plasma : Aspects fondamentaux et applications
Min Koo1
(22/12/2008)

L'objectif du travail de thèse est d'étudier les effets de température et du dopage sur les caractéristiques de gravure du Si et des polymères : produits de réaction, cinétiques, énergie d'activation, anisotropie, et sélectivité. La gravure anisotrope des polymères est ensuite étudiée en fonction de la température en utilisant des mélanges de gaz permettant d'utiliser un procédé par passivation latérale. Les résultats expérimentaux obtenus sont discutés en tenant compte de l'étude thermodynamique des systèmes chimiques concernés. Le travail s'achève par l'étude de faisabilité de filtres pour microfiltration par perçage de pores à travers des films polymère.
1 :  LPSC - Laboratoire de Physique Subatomique et de Cosmologie
Physique
gravure – plasmas micro-onde – gravure du silicium – gravure des polymères – température de surface – dopage du silicium – passivation latérale – mélanges SO2 / O2 – mélanges CO / O2 – SF6 – filtres pour micro- et nanofiltration
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