Les procédés de traitement de surface par dépôt, qui permettent de modifier les propriétés de surface sans modifier celles du volume, connaissent un grand essor industriel. La description de ces procédés amène à considérer le rôle et l'importance que les plasma y jouent. La nouvelle source de plasma que nous avons mis au point a été l'objet d'une étude expériementale qui est exposée. Cette source de plasma est la base du procédé de dépôt que nous avons développé (dépôt de vapeur et d'ions métalliques). La description et les résultats préliminaires permettent de comparer ce procédé avec ceux existants. Les deux caractéristiques essentielles de ce procédé sont la très grande vitesse de dépôt et la très bonne adhérence.