Article Dans Une Revue
Radiation Effects
Année : 1982
Yvette Heyd : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.in2p3.fr/in2p3-00017865
Soumis le : mercredi 18 octobre 2000-08:56:12
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:18:11
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : in2p3-00017865 , version 1
Citer
M.O. Lampert, J.C. Muller, J.P. Ponpon, P. Siffert. Optical characteristics of thin silicon films deposited by CVD and annealed by pulsed laser. Radiation Effects, 1982, 63, pp.169. ⟨in2p3-00017865⟩
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