Photodecomposition de monosilane sensibilisee au mercure (Hg-Photo-CVD): Application au depot en couches minces du silicium amorphe hydrogene (a-Si/H)

B. Aka

Theses Year : 1989

Photodecomposition de monosilane sensibilisee au mercure (Hg-Photo-CVD): Application au depot en couches minces du silicium amorphe hydrogene (a-Si/H)

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B. Aka

Function : Author

Institut de Recherches Subatomiques

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https://hal.in2p3.fr/in2p3-00019116

Submitted on : Friday, February 23, 2001-2:29:27 PM

Last modification on : Friday, June 2, 2023-3:36:26 PM

Dates and versions

in2p3-00019116 , version 1 (23-02-2001)

Identifiers

HAL Id : in2p3-00019116 , version 1

Cite

B. Aka. Photodecomposition de monosilane sensibilisee au mercure (Hg-Photo-CVD): Application au depot en couches minces du silicium amorphe hydrogene (a-Si/H). Université Louis Pasteur - Strasbourg I, 1989. English. ⟨NNT : ⟩. ⟨in2p3-00019116⟩

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