Photodecomposition de monosilane sensibilisee au mercure (Hg-Photo-CVD): Application au depot en couches minces du silicium amorphe hydrogene (a-Si/H) - IN2P3 - Institut national de physique nucléaire et de physique des particules Access content directly
Theses Year : 1989

Photodecomposition de monosilane sensibilisee au mercure (Hg-Photo-CVD): Application au depot en couches minces du silicium amorphe hydrogene (a-Si/H)

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Dates and versions

in2p3-00019116 , version 1 (23-02-2001)

Identifiers

  • HAL Id : in2p3-00019116 , version 1

Cite

B. Aka. Photodecomposition de monosilane sensibilisee au mercure (Hg-Photo-CVD): Application au depot en couches minces du silicium amorphe hydrogene (a-Si/H). Université Louis Pasteur - Strasbourg I, 1989. English. ⟨NNT : ⟩. ⟨in2p3-00019116⟩
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