Photodecomposition de monosilane sensibilisee au mercure (Hg-Photo-CVD): Application au depot en couches minces du silicium amorphe hydrogene (a-Si/H) - IN2P3 - Institut national de physique nucléaire et de physique des particules Accéder directement au contenu
Thèse Année : 1989

Photodecomposition de monosilane sensibilisee au mercure (Hg-Photo-CVD): Application au depot en couches minces du silicium amorphe hydrogene (a-Si/H)

B. Aka
  • Fonction : Auteur
Institut de Recherches Subatomiques

Yvette Heyd  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.in2p3.fr/in2p3-00019116

Soumis le : vendredi 23 février 2001-14:29:27

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:18:11

Fichier non déposé

Dates et versions

in2p3-00019116 , version 1 (23-02-2001)

Identifiants

  • HAL Id : in2p3-00019116 , version 1

Citer

B. Aka. Photodecomposition de monosilane sensibilisee au mercure (Hg-Photo-CVD): Application au depot en couches minces du silicium amorphe hydrogene (a-Si/H). Université Louis Pasteur - Strasbourg I, 1989. English. ⟨NNT : ⟩. ⟨in2p3-00019116⟩

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