Etude de l'implantation ionique a haute energie de bore et d'oxygene dans le silicium - IN2P3 - Institut national de physique nucléaire et de physique des particules Access content directly
Theses Year : 1991

Etude de l'implantation ionique a haute energie de bore et d'oxygene dans le silicium

P. Thevenin
  • Function : Author
Institut de Recherches Subatomiques

Yvette Heyd  : Connect in order to contact the contributor

https://hal.in2p3.fr/in2p3-00019134

Submitted on : Monday, February 26, 2001-7:37:51 AM

Last modification on : Friday, June 2, 2023-3:36:26 PM

No file

Dates and versions

in2p3-00019134 , version 1 (26-02-2001)

Identifiers

  • HAL Id : in2p3-00019134 , version 1

Cite

P. Thevenin. Etude de l'implantation ionique a haute energie de bore et d'oxygene dans le silicium. Université Louis Pasteur - Strasbourg I, 1991. English. ⟨NNT : ⟩. ⟨in2p3-00019134⟩

Export

BibTeX TEI Dublin Core DC Terms EndNote Datacite

Collections

IN2P3 CNRS CGE SITE-ALSACE
7 View
0 Download

Share

Gmail Facebook Twitter LinkedIn More