Self-consistent isotopic comparative method used to determine dependence of secondary-ion yields on oxygen concentration in Si-O system up to 33 at% - IN2P3 - Institut national de physique nucléaire et de physique des particules Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Surface and Interface Analysis Année : 2013

Self-consistent isotopic comparative method used to determine dependence of secondary-ion yields on oxygen concentration in Si-O system up to 33 at%

J.C. Dupuy
  • Fonction : Auteur
G. Prudon
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C. Dubois
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R. Koegler
  • Fonction : Auteur
S. Akhmadaliev
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A. Perrat-Mabilon
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Soumis le : mercredi 19 juin 2013-10:24:37

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:18:12

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Dates et versions

in2p3-00835579 , version 1 (19-06-2013)

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Citer

J.C. Dupuy, G. Prudon, C. Dubois, R. Koegler, S. Akhmadaliev, et al.. Self-consistent isotopic comparative method used to determine dependence of secondary-ion yields on oxygen concentration in Si-O system up to 33 at%. Surface and Interface Analysis, 2013, 45, pp.369-372. ⟨10.1002/sia.5108⟩. ⟨in2p3-00835579⟩

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