Alpha backscattering used in stoichiometry determination of thin sic coatings on si(100) wafers - IN2P3 - Institut national de physique nucléaire et de physique des particules Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms Année : 1996

Alpha backscattering used in stoichiometry determination of thin sic coatings on si(100) wafers

R. Somatri
  • Fonction : Auteur
Institut de Physique Nucléaire de Lyon
Jean-François Chailan
A. Chevarier
  • Fonction : Auteur
Institut de Physique Nucléaire de Lyon
N. Chevarier
  • Fonction : Auteur
Institut de Physique Nucléaire de Lyon
G. Ferro
  • Fonction : Auteur
Y. Monteil
  • Fonction : Auteur
H. Vincent
  • Fonction : Auteur
J. Bouix
  • Fonction : Auteur

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Physique Nucléaire Expérimentale [nucl-ex]

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https://hal.in2p3.fr/in2p3-00012931

Soumis le : vendredi 5 février 1999-12:30:28

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:18:11

Fichier non déposé

Dates et versions

in2p3-00012931 , version 1 (05-02-1999)

Identifiants

  • HAL Id : in2p3-00012931 , version 1

Citer

R. Somatri, Jean-François Chailan, A. Chevarier, N. Chevarier, G. Ferro, et al.. Alpha backscattering used in stoichiometry determination of thin sic coatings on si(100) wafers. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 1996, 113, pp.284-287. ⟨in2p3-00012931⟩

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