Nitrogen ions implantation - manufacturing applications - IN2P3 - Institut national de physique nucléaire et de physique des particules Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Annales de Chimie Année : 1984

Nitrogen ions implantation - manufacturing applications

M. Robelet
  • Fonction : Auteur
J. Tousset
  • Fonction : Auteur
Institut de Physique Nucléaire de Lyon
N. Moncoffre
  • Fonction : Auteur
Institut de Physique Nucléaire de Lyon
S. Fayeulle
  • Fonction : Auteur
Institut de Physique Nucléaire de Lyon
D. Treheux
  • Fonction : Auteur
P. Guiraldenq
  • Fonction : Auteur

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https://hal.in2p3.fr/in2p3-00004668

Soumis le : jeudi 6 avril 2000-16:08:34

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:18:11

Fichier non déposé

Dates et versions

in2p3-00004668 , version 1 (06-04-2000)

Identifiants

  • HAL Id : in2p3-00004668 , version 1

Citer

M. Robelet, J. Tousset, N. Moncoffre, S. Fayeulle, D. Treheux, et al.. Nitrogen ions implantation - manufacturing applications. Colloquium On Metallurgy 26, Jun 1983, Saclay, France. pp.319-322. ⟨in2p3-00004668⟩

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