Potential and kinetic sputtering of U$O_2$ by slow highly charged ions - IN2P3 - Institut national de physique nucléaire et de physique des particules Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Physica Scripta Année : 2004

Potential and kinetic sputtering of U$O_2$ by slow highly charged ions

B. Ban-d'Etat
  • Fonction : Auteur
Centre Interdisciplinaire de Recherche Ions Lasers
F. Haranger
  • Fonction : Auteur
Ph. Boduch
Centre Interdisciplinaire de Recherche Ions Lasers
S. Bouffard
  • Fonction : Auteur
Centre Interdisciplinaire de Recherche Ions Lasers
H. Lebius
Centre Interdisciplinaire de Recherche Ions Lasers
L. Maunoury
  • Fonction : Auteur
Centre Interdisciplinaire de Recherche Ions Lasers
J.Y. Pacquet
  • Fonction : Auteur
Grand Accélérateur National d'Ions Lourds
H. Rothard
Centre Interdisciplinaire de Recherche Ions Lasers
CV
C. Clerc
  • Fonction : Auteur
F. Garrido
  • Fonction : Auteur
L. Thome
  • Fonction : Auteur
R. Hellhammer
  • Fonction : Auteur
Z. Pesic
  • Fonction : Auteur
N. Stolterfoht
  • Fonction : Auteur

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Soumis le : mercredi 1 septembre 2004-16:42:34

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:18:12

Fichier non déposé

Dates et versions

in2p3-00022191 , version 1 (01-09-2004)

Identifiants

  • HAL Id : in2p3-00022191 , version 1

Citer

B. Ban-d'Etat, F. Haranger, Ph. Boduch, S. Bouffard, H. Lebius, et al.. Potential and kinetic sputtering of U$O_2$ by slow highly charged ions. International Conference on Photonic, Electronic and Atomic Collisions 23, Jul 2003, Stockholm, Sweden. pp.389-393. ⟨in2p3-00022191⟩

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