MgH2 thin films deposited by one-step reactive plasma sputtering - IN2P3 - Institut national de physique nucléaire et de physique des particules Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue International Journal of Hydrogen Energy Année : 2014
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Dates et versions

in2p3-01068590 , version 1 (26-09-2014)

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Citer

H. Le-Quoc, A. Lacoste, S. Miraglia, Stéphane Béchu, A. Bès, et al.. MgH2 thin films deposited by one-step reactive plasma sputtering. International Journal of Hydrogen Energy, 2014, 39 (31), pp.17718-17725. ⟨10.1016/j.ijhydene.2014.08.096⟩. ⟨in2p3-01068590⟩
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